、工作温度:不同的镀膜需要不同的温度,比如镀金色TiN,温度580℃。镀银灰色TiCN温度是450℃。
2、工作时间:由于不同镀膜需要的温度不同,以致不同的镀膜需要不同的时间来控制;
3、材料本身:产地、厚度、规格、内部构成化学元素、表面初始加工的相似度;
4、真空镀膜材料:目前真空镀膜常规材料大致有:碳化钛、氮化钛、碳氮化钛等,可以满足市面常规(普通)的镀膜需要,比较的镀膜材料有氮化钛铝,氮化铬膜等,用于加工比较复杂、的颜色;
5、不同的加工环境、不同的镀钛炉、不同的镀钛技工的处理方式都会对镀钛结果产生不同程度的影响;
6、由于不锈钢表面加工工序的复杂性,每一张板材的每一道工序是不可能控制到一致的,这就直接影响到终成品的表面色泽,这也是目前该行业技术上的一个瓶颈。
较为成熟的 PVD 方法主要有多弧镀与磁控溅射镀两种方式。多弧镀设备结构简单,容易操作。它的离子蒸发源靠电焊机电源供电即可工作,其引弧的过程也与电焊类似,具体地说,在一定工艺气压下,引弧针与蒸发离子源短暂接触,断开,使气体放电。镀钛工艺还可增强模具表面硬度,减少原材料在高压冲刷下对高光面造成的损伤,从而延长模具寿命。由于多弧镀的成因主要是借助于不断移动的弧斑,在蒸发源表面上连续形成熔池,使金属蒸发后,沉积在基体上而得到薄膜层的,与磁控溅射相比,它不但有靶材利用率高,更具有金属离子离化率高,薄膜与基体之间结合力强的优点。此外,多弧镀涂层颜色较为稳定,尤其是在做 TiN 涂层时,每一批次均容易得到相同稳定的金黄色,令磁控溅射法望尘莫及。多弧镀的不足之处是,在用传统的 DC 电源做低温涂层条件下,当涂层厚度达到0.3μm 时,沉积率与反射率接近,成膜变得非常困难。而且,薄膜表面开始变朦。多弧镀的不足之处是,在用传统的DC电源做低温涂层条件下,当涂层厚度达到0。多弧镀另一个不足之处是,由于金属是熔后蒸发,因此沉积颗粒较大,致密度低,耐磨性比磁控溅射法成膜差。基片置于合适的位置是获得均匀薄膜的前提条件.
b、压强的大小. 为了保证膜层质量,压强应尽可能低Pr≦(Pa)
L表示蒸发源到基片的距离为L(cm)。
c、蒸发速率.蒸发速率小时,沉积的膜料原子(或分子)上立刻吸附气体分子,因而形成的膜层结构疏松,颗粒粗大,缺陷多;反之,膜层结构均匀致密,机械强度高,膜层内应力大.
d、基片的温度.在通常情况下,基片温度高时,吸附原子的动能随之增大,形成的薄膜容易结晶化,并使晶格缺陷减少;基片温度低时,则没有足够大的能量供给吸附原子,因而容易形成无定形态薄膜.
以上信息由专业从事不锈钢镀钛电话的金常来于2024/5/3 11:24:53发布
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